Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/021; A61K 7/043.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
PRODUTO COSMÉTICO PARA MAQUIAGEM, PROCESSO DE MAQUIAGEM, KIT DE MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DO PRODUTO E SUPORTE DE MAQUIAGEM.
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9903099Tipo
Patente de Invenção
Depósito
23/06/1999
Publicação
06/02/2001
Andamento no INPI
- Depósito23/06/99
- Publicação06/02/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
L'Oreal
FR
Inventores
J. S. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
9808085 · 25/06/1998
Resumo técnico
''PRODUTO COSMÉTICO PARA MAQUIAGEM, PROCESSO DE MAQUIAGEM, KIT DE MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DO PRODUTO E SUPORTE DE MAQUIAGEM'' A presente invenção se refere a um novo produto de maquiagem compreendendo uma primeira tintura fotocromática ou composição de pigmento destinada a formar uma camada-base sobre um suporte e uma segunda composição contendo um agente filtrante de UV, destinado a formar sobre a camada-base uma camada superior compreendendo padrões decorativos. Dependendo da natureza da luz iluminando o suporte, é possível ver os mencionados padrões aparecerem ou desaparecerem. Este produto é destinado em particular à pintura das unhas, lábios, face, pálpebras ou do corpo. A presente invenção também se refere a um processo de maquiagem para o rosto, lábios ou corpo humano.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1910 de 14/08/2007.
06/12/2011
RPI 2135
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 4ª, 5ª, 6ª, 7ª e 8ª anuidades.
14/08/2007
RPI 1910
Publicação do pedido de patente
#3.1
06/02/2001
RPI 1570
Pedido de patente depositado
#2.1
21/11/2000
RPI 1559
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