Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/07/2004
RPI 1748
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Dado oficial do INPI
POLÍMEROS COM UNIDADES DE MALEIMIDA N-SUBSTITUÍDA E SUA APLICAÇÃO EM MISTURAS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO.
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9900610Tipo
Patente de Invenção
Depósito
29/01/1999
Publicação
11/04/2000
Andamento no INPI
- Depósito29/01/99
- Publicação11/04/00
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 29/01/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Agfa-Gevaert Ag
DE
Inventores
D. E. (pessoa física)
DE
D. D. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
198 03 564-0 · 30/01/1998
Resumo técnico
Patente de Invenção: "POLÍMEROS COM UNIDADES DE MALEIMIDA N-SUBSTITUÍDA E SUA APLICAÇÃO EM MISTURAS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO" . A invenção refere-se a polímeros com unidades a partir de maleimida N-substituída, uma mistura sensível à radiação que trabalha de maneira positiva ou negativa, que contém a) um aglutinante de polímero insolúvel em água, solúvel em solução aquosa e alcalina e b) pelo menos um composto sensível à radiação, sendo que o aglutinante engloba um polímero com unidade a partir de maleimida N-substituída da fórmula (I) Além disso, a invenção refere-se a um material de desenho com um suporte e uma camada sensível à radiação, sendo que a camada consiste na mistura mencionada. O material de desenho é especialmente adequado para a preparação de desenhos em relevo resistentes a produtos químicos. As placas de impressão planas preparadas a partir do material de desenho permitem uma elevada tiragem de impressão e são resistentes face e produtos químicos de processamento.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
18/11/2003
RPI 1715
Publicação do pedido de patente
#3.1
11/04/2000
RPI 1527
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