Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
22/10/2002
RPI 1659
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Dado oficial do INPI
MISTURA SENSÍVEL À RADIAÇÃO QUE TRABALHA POSITIVAMENTE E MATERIAL DE DESENHO COM UM VEÍCULO E UMA CAMADA SENSÍVEL À RADIAÇÃO
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9501830Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/04/1995
Publicação
05/03/1996
Andamento no INPI
- Depósito27/04/95
- Publicação05/03/96
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 22/10/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Agfa-Gevaert AG
DE
H. A. (pessoa física)
DE
Inventores
G. B. (pessoa física)
DE
M. E. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
P 44 14 896.8 · 28/04/1994
Resumo técnico
Patente de Invenção: "MISTURA SENSÍVEL À RADIAÇÃO A QUE TRABALHA POSITIVAMENTE E MATERIAL DE DESENHO COM UM VEÍCULO E UMA CAMADA SENSÍVEL À RADIAÇÃO" .A invenção refere-se a uma mistura sensível à radiação que trabalha positivamento com a) um adesivo polímero com grupos lábeis aos ácidos e b) um composto formador de um ácido forte na exposição à luz, na qual o adesivo apresenta simultaneamente unidades das formulas I,II,III R^ 1^-OH (I), R^ 1^-O-CO~ 2~R^ 2^ (II), R^ 1^-O-CH~ 2~-CHR^ 3^-OH (III). A mistura é aplicada p[ara o revestimento de material de desenho sensível à radiação, que pode ser aplicado na preparação de placas de impressão e foterresits.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
27/11/2001
RPI 1612
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Hoechst Aktiengesellschaft
12/01/1999
RPI 1462
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/03/1996
RPI 1318
Pedido de patente depositado
#2.1
06/06/1995
RPI 1279
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