Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1923 de 13/11/2007.
16/11/2011
RPI 2132
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Dado oficial do INPI
DISPOSITIVO E PROCESSO DE ANÁLISE DE GÁS PARA A MEDIÇÃO DE ALTAS CONCENTRAÇÕES DE OXIGÊNIO
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9806510Tipo
Patente de Invenção
Depósito
03/02/1998
Publicação
18/09/2001
Andamento no INPI
- Depósito03/02/98
- Publicação18/09/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Litton Systems, Inc.
US
Inventores
T. C. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/796084 · 05/02/1997
Resumo técnico
"DISPOSITIVO E PROCESSO DE ANÁLISE DE GÁS PARA A MEDIÇÃO DE ALTAS CONCENTRAÇÕES DE OXIGÊNIO". Dispositivo de análise de gás usando orifícios múltiplos de tamanhos preselecionados para atingir uma razão calculada de mistura de gás para diluir uma amostra de oxigênio a uma concentração menor que 95% antes da aplicação a um sensor de oxigênio de corrente limitadora. O dispositivo compreende um regulador para regular as pressões dos fluxos entrantes de ar e da amostra de oxigênio a ser medida, uma válvula que permite que a concentração da amostra de ar para amostra de oxigênio seja medida, e um sistema para calcular a proporção amostra de ar/amostra de oxigênio baseado na concentração conhecida da amostra de ar e, então, baseado na concentração conhecida de ar e na proporção calculada da mistura, calcular a concentração desconhecida da amostra desde a saída do sensor de oxigênio.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente a 9ª anuidade
13/11/2007
RPI 1923
11.14
Revista 1713 de 04/11/2003
27/04/2004
RPI 1738
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
04/11/2003
RPI 1713
Publicação do pedido de patente
#3.1
18/09/2001
RPI 1602
Pedido de patente depositado
#2.1
21/11/2000
RPI 1559
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