Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/02/2009
RPI 1988
Dados do pedido
Número
PI9805997Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR1998001238 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/02/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Galderma Research & Development S.N.C.
FR
Inventores
J. B. (pessoa física)
FR
S. T. (pessoa física)
FR
Prioridades unionistas
FR
97 07358 · 13/06/1997
Resumo técnico
Patente de Invenção: "COMPOSTOS BIAROMÁTICOS E COMPOSIÇÕES FARMACÊUTICAS E COSMÉTICAS COMPREENDENDO OS MESMOS" . A invenção refere-se a compostos bi-aromáticos de fórmula (I) em que Ar representa (a), (b) ou (c); Z representa O ou S, R~ 1~ representa -CH~ 3~, -CH~ 2~-O-R~ 6~, -OR~ 6~ou -COR~ 7~; R~ 2~ representa -OR~ 8~ , -SR~ 8~ ou um radical poliéter, se, no último caso, R~ 4~ representar C~1-20~ alquila e estiver na posição orto ou meta com relação à ligação X-Ar; R~ 3~ representa alquila inferior, ou R~ 2~ ou R~3~ juntos, formam um anel opcionalmente interrompido por um átomo de oxigênio ou enxofre; R~ 4~representaH, um halogênio, C~ 1-20~ alquila, -OR~ 8~ , um radical poliéter ou arila; R~ 5~ representaH, um halogênio, C~ 1-20~ alquila ou um radical -OR~ 8~ ; R~ 6~ representa H, alquila inferior ou um radical -COR~ 9~; R~ 7~ representa H, alquila inferior, -N(r')(r") ou -OR~ 10~; R 8~ representa H, alquila inferior, ou -COR~ 9~, R~ 9~ representa alquila inferior, R~ 10~ representa H, C~ 1-20~ alquila, alquenila, mono- ou polihidroxialquila, arila ou aralquila opcionalmente substituídos ou um resíduo de açúcar, r' e r" representamH, alquila inferior, mono- ou polihidroxialquila, arila, ou um aminoácido ou resíduo de açúcar ou, juntos formam um heterociclo, X representa um radical de fórmula (d) ou (e) em que R~ 11~é H ou -OR~ 6~; R~ 12~ é H ou alquila; ou R~ 11~ e R~ 12~ formam um radical oxo, e os sais, isômeros ópticos e geométricos dos compostos de fórmula (I).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
10/02/2009
RPI 1988
#6.1
13/05/2008
RPI 1949
#7.1
17/04/2007
RPI 1893
#1.3
25/01/2000
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