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Dado oficial do INPI

"COMPOSIÇÃO SOLVENTE PARA DESENGRAXE E LIMPEZA DE SUPERFÍCIES".

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9800249

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/01/1998

Publicação

18/01/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito16/01/98
  2. Publicação18/01/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 16/01/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Rhodia Brasil Ltda

SP, BR

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Inventores

A. S. (pessoa física)

BR

C. T. (pessoa física)

BR

M. M. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

COMPOSIÇÃO SOLVENTE PARA DESENGRAXE E LIMPEZA DE SUPERFÍCIES. A presente invenção trata de composição solvente para desengraxe e limpeza de superfícies caracterizado por compreender: (a) entre cerca de 0 e 80 % em peso em relação aos componentes (b), (c) e (d) de diésteres metílicos dos ácidos glutárico, succínico e adípico, ou de suas misturas; (b) entre cerca de 0 a 60 % em peso em relação a (a), (c), (d), (e) de um ou mais terpenos; (c) entre cerca de 0 a 20 % em peso em relação a (a), (b), (d), (e) de um ou mais surfactantes não-iônicos; (d) entre cerca de 0 a 50 % em peso em relação a (a), (b), (c), (e) de N-Metil-2-Pirrolidona (NMP). (e) entre cerca de 0 a 20 % em peso em relação às massas de (a), (b), (c), (d) de um ou mais agentes ativadores. A referida invenção apresenta características biodegradáveis, baixo potencial toxicológico, utilizável em remoção de resíduos orgânicos tais como, óleos, naflênicos, parafínicos e pasta de solda de superfícies contaminadas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

08/06/2004

RPI 1744

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

21/10/2003

RPI 1711

Publicação do pedido de patente

#3.1

18/01/2000

RPI 1515

Monitoramento de patentes

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