Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente ao despacho publicado na RPI 1996 de 07/04/2009 e à 12ª anuidade.
17/02/2010
RPI 2041
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Dado oficial do INPI
UNIDADE DE VÁLVULA DE SEGURANÇA PARA GÁS SOB PRESSÃO, PARTICULARMENTE PARA VAPORES DE COMBUSTÍVEL
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9800175Tipo
Patente de Invenção
Depósito
13/01/1998
Publicação
27/04/1999
Andamento no INPI
- Depósito13/01/98
- Publicação27/04/99
- Exame
- Deferimento04/06/02
- Concessão18/02/03
- Extinto17/02/10
Patente concedida em 18/02/2003 e depois extinta em 17/02/2010. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/02/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Ergom Materie Plastiche S.P.A.
IT
Inventores
F. C. (pessoa física)
IT
G. C. (pessoa física)
IT
O. L. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
IT
TO97 A 000022 · 14/01/1997
Resumo técnico
"Unidade de válvula de segurança para gás sob pressão, particularmente para vapores de combustível" A válvula compreende um corpo 3 definindo uma câmara 10 que se comunica com um primeiro e um segundo ambiente a montante e a jusante da unidade 1, respectivamente, através de primeira 12 e segunda 14 aberturas. O corpo é dotado de meios de válvula 15 incluindo uma sede de válvula 18 interposta entre as aberturas 12, 14 e um obturador 20 forçado por um elemento resiliente 24 e móvel entre a posição de engate com a sede 18 e a posição deslocada da sede 18. O obturador 20 pode ser afastado de dita sede de válvula 18, superando a ação do elemento resiliente 24, quando um valor limiar predeterminado do diferencial de pressão entre os ambientes é atingido, quando o obturador 20 está acoplado com a sede 18 e o diferencial de pressão os ambientes é menor que o valor limiar predeterminado, os meios de válvula 15 definem uma passagem livre 28 que permite um pequeno e constante fluxo de gás entre os primeiro e segundo elementos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
24.3
Referente à 11ª anuidade.
07/04/2009
RPI 1996
Concessão da patente
#16.1
18/02/2003
RPI 1676
Deferimento
#9.1
04/06/2002
RPI 1639
Publicação do pedido de patente
#3.1
27/04/1999
RPI 1477
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