Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
25/08/2009
RPI 2016
Dados do pedido
Número
PI9713017Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1997019559 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/08/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Bausch & Lomb Incorporated
US
Inventores
A. L. (pessoa física)
US
W. J. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/031,808 · 13/11/1996
Resumo técnico
"MÉTODO PARA LIMPAR E/OU DESINFETAR LENTES DE CONTATO FLEXÍVEIS". A presente invenção é dirigida para um método para desinfetar lentes de contato com uma solução aquosa oftalmicamente segura compreendendo cerca de 2,0 a cerca de 8,0 ppm de uma bis(biguanida tendo a fórmula (I), sendo que R^ 1^ e R^ 4^ são independentemente selecionados do grupo consistindo e alquilas ramificadas ou não ramificadas tendo 4-12 átomos de carbono, radical éter ou tioéter tendo 4-12 átomos de carbono, ou radical cicloalquila ou cicloalquil-alquila tendo 5-12 átomos de carbono, R^ 2^ e R^ 3^ são independentemente selecionados do grupo consistindo de hidrogênio ou alquila tendo 1-1 átomos de carbono, alcoxialquila tendo 1-12 átomos de carbono, ou cicloalquila ou cicloalquil-alquila tendo 5-12 átomos de carbono, R^ 2^ e R^ 3^ são independentemente selecionados do grupo consistindo de hidrogênio e radical alquila tendo 1-1 átomos de carbono, alcoxialquila tendo 1-12 átomos de carbono, ou cicloalquila ou cicloalquil-aluila tendo 5-12 átomos de carbono R^ 6^ e R^ 7^ são independentemente selecionados do grupo consistindo de hidrogênio e radical alquila tendo 1-6 átomos de carbono, e A na citada fórmula é selecionada do grupo consistindo de um radical divalente alquila, alquioxialquila ou radical alquilsulfeto cada um tendo 4-12 átomos de carbono. A invenção também é dirigida para um método de limpar e/ou desinfetar lentes de contato dentro de um período mínimo de banho que não seja maior que cerca de 75 minutos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
25/08/2009
RPI 2016
#6.1
10/02/2009
RPI 1988
#7.1
06/11/2007
RPI 1922
#1.3
25/01/2000
RPI 1516
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