Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
Dados do pedido
Número
PI9710764Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1997013317 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 22/07/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Cauldron Limited Partnership
US
Inventores
A. J. (pessoa física)
US
A. E. (pessoa física)
US
W. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
686523 · 26/07/1996
Resumo técnico
Patente de Invenção: "REMOÇÃO DE MATERIAL POR RADIAÇÃO APLICADA A UM ÂNGULO OBLÍQUIO". Um aparelho (10) e processo para remover material indesejado da superfície de um substrato (12) proporciona um fluxo (18) de gás inerte sobre a superfície do substrato de material indesejado enquanto irradiando (11) o material indesejado com fótons energéticos dirigidos a um ângulo (8) que é oblíquio ao substrato (12). A invenção habilita a remoção de material indesejado sem alterar as propriedades físicas do material subjacente ou adjacente ao material indesejado removido. Sob determinadas circunstâncias, a incidência não-perpendicular permite efetiva remoção onde a incidência perpendicular causa dano ao substrato ou remoção insatisfatória, ou ambas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
#11.1
21/10/2003
RPI 1711
#1.3
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