Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
29/08/2000
RPI 1547
Dados do pedido
Número
PI9405973Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1994003907 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/08/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Cauldron Limited Partnership
US
Inventores
A. E. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
045165 · 12/04/1993
Resumo técnico
São descritos um equipamento e um processo para a remoção de contaminantes superficiais de uma superfície de um substrato que propiciam um fluxo laminar de gás inerte (18) sobre a superfície do substrato (12) ao mesmo tempo que irradia o substrato. A presente invenção permite a remoção de contaminantes superficiais sem alterar a estrutura cristalina molecular superficial do substrato. A fonte de irradiação de alta energia inclui um laser pulsante ou de onda contínua ou uma lâmpada de alta energia.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
29/08/2000
RPI 1547
#6.1
23/11/1999
RPI 1507
#1.3
12/12/1995
RPI 1306
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