Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: B05D 3/06; C08F 299/08; C08F 290/06; C09J 7/02; C09D 183/06.
20/03/2018
RPI 2463
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Dado oficial do INPI
PROCESSOS PARA PRODUZIR UM REVESTIMENTO DE LIBERACAO SOBRE UM SUBSTRATO E UM ADESIVO SENSIVEL A PRESSAO, E REVESTIMENTO DE LIBERACAO.
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1997003826
Dados do pedido
Número
PI9708782Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/03/1997
Publicação
03/08/1999
PCT
US1997003826 Andamento no INPI
- Depósito12/03/97
- Publicação03/08/99
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 12/03/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Minnesota Miming And Manufacturing Company
US
Inventores
R. W. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/635116 · 19/04/1996
Resumo técnico
"PROCESSOS PARA PRODUZIR UM REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO SOBRE UM SUBSTRATO E UM ADESIVO SENSÍVEL A PRESSÃO, E, REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO". São descritos processos de produzir revestimentos de liberação, adesivos, revestimentos de primeira demão e outros revestimentos poliméricos. Um processo para produzir um revestimento de liberação em um substrato, compreende as etapas de aplicar uma composição polimerizável, consistindo de um polissiloxano etilenicamente insaturado e polimerizável por radical livre, a uma superfície de um substrato e expor a composição polimerizável a uma fonte de luz monocromática, tendo uma intensidade de pico em um comprimento de onda entre cerca de 160 manômetros a 240 nanômetros, para formar um revestimento de liberação. São também descritos processos para produzir um adesivo sensível a pressão e outros revestimentos poliméricos, empregando-se uma fonte de luz monocromática.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
21/10/2003
RPI 1711
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/08/1999
RPI 1491
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