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Dado oficial do INPI

PROCESSO E APARELHO PARA REFINAMENTO DE SILÍCIO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9701330

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/03/1997

Publicação

10/11/1998

Andamento no INPI

  1. Depósito18/03/97
  2. Publicação10/11/98
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 04/01/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

K. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

F. A. (pessoa física)

JP

H. B. (pessoa física)

JP

K. H. (pessoa física)

JP

M. A. (pessoa física)

JP

N. N. (pessoa física)

JP

N. Y. (pessoa física)

JP

Y. S. (pessoa física)

JP

Y. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

063319 · 19/03/1996

JP

288220 · 30/10/1996

JP

347961 · 26/12/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO E APARELHO PARA REFINAMENTO DE SILÍCIO" . Processo e aparelho para refinamento de silício pelo tratamento em um vaso de frafite com irradiação com um feixe de elétrons, enquanto se remove quaisquer elementos de impureza por evaporação. Uma único vaso de grafite é usado, ou vasos de grafite plurais são dispostos em seqüência. Durante o tratamento em vasos de gradite sucessivos, o silício fundido é vazado em sucessão de um vaso para o outro. O uso de vasos de grafite melhora a eficiência térmica, evita a contaminação e produz silício refinado contendo teores muito baixos de impurezas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

04/01/2005

RPI 1774

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

22/06/2004

RPI 1746

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

14/05/2002

RPI 1636

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/11/1998

RPI 1453

Pedido de patente depositado

#2.1

10/06/1997

RPI 1384

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