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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO E PROCESSO PARA REGULAR O CRESCIMENTO DE PLANTAS

Em AnálisePatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9603370

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/08/1996

Publicação

12/05/1998

Andamento no INPI

  1. Depósito09/08/96
  2. Publicação12/05/98
  3. Exame
  4. Indeferido13/10/10
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 13/10/2010 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/10/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Nihon Nohyaku Co., Ltd.

JP

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Inventores

A. Y. (pessoa física)

JP

H. M. (pessoa física)

JP

T. M. (pessoa física)

JP

Y. H. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

07-227418 · 12/08/1995

Resumo técnico

Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO E PROCESSO PARA REGULAR O CRESCIMENTO DE PLANTAS". Um composição para regular o crescimento de plantas a qual compreende como um ingrediente (s) ativo(s) pelo menos um derivado de fenil-pirazol susbtituído na posição 3 represetado pela formula (I): [na qual R é -Y^ 1^R^ 3^, -Y^ 2^CH(R^ 4^)CO-OR^ 5^, -COOCH(R^ 4)CO-Y^ 1^R^ 5^ ou -COOR^ 6^ (onde R^ 3^ = alquila, halo-alquila, alquenila ou alquinila, R^ 4^ = H ou alquila, R^ 5^ = H, alquila, halo-alquila, alquenila ou alquinila, R^ 6^ = alquila, halo-alquila, alquenila ou alquenila, Y^ 1^ = -0- ou -S-, e Y^ 2^ = -0-, -S-, ou -NH), T^ 1^ é um grupo alquila inferior, R^ 2^ é H, um grupo alquila inferior ou um grupo halo-alquola, inferioe, cada um de X^ 1^ e X^ 2^ é um átomo de halogênio, Y é -0-, -S-, -SO~ 2~- ou - NH-, e n é 0 ou 1], e atua como agente dessecante oi desfolhante para tubérculos (por exemplo batata), cultura fibrosas (por exemplo algodão), culturas oleosas (por exemplo soja e girassol) e cerais (por exemplo arroz); e um processo para apliar a citada composição

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

111

Recorrente: O depositante.@Decisão: Recurso conhecido e negado o provimento. Mantido o indeferimento do pedido.

13/10/2010

RPI 2075

120

Recorrente: O depositante. @Despacho: Tome conhecimento do parecer técnico.

03/02/2009

RPI 1987

Petição de recurso

#12.2

03/04/2007

RPI 1891

Indeferimento

#9.2

Com base com o Art. 13 da LPI 9.279/96, decidimos pelo INDEFERIMENTO do presente pedido

02/01/2007

RPI 1878

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

01/11/2005

RPI 1817

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

02/04/2002

RPI 1630

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/05/1998

RPI 1429

Pedido de patente depositado

#2.1

07/01/1997

RPI 1362

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