Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
31/12/2002
RPI 1669
Dados do pedido
Número
PI9507914Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP1995001924 Pedido deferido em 30/10/2001, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 31/12/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
B. A. (pessoa física)
DE
Inventores
E. A. (pessoa física)
DE
F. W. (pessoa física)
DE
G. L. (pessoa física)
DE
J. S. (pessoa física)
DE
K. E. (pessoa física)
DE
O. W. (pessoa física)
DE
T. M. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
195 04 423.1 · 10/02/1995
DE
P 44 19 516.8 · 03/06/1994
Resumo técnico
Patente de Invenção: "CARBAMOIL-CABO-HIDRAZIDA, PROCESSO PARA PREPARAR CARBAMOIL-CABO-HIDRAZIDA, COMPOSIÇÃO ADEQUADA E PROCESSO PARA CONTROLAR FUNGOS NOCIVOS, USO DA CARBAMOIL-CARBO-HIDRAZIDA, E, AMINO-ÁCIDO-HIDRAZIDA". São descritas hidrazidas de ácido carbomoil-carboxílico (I) e seus sais, nas quais: R^ 1^ é alquila, alquenila, alquinila, ciclo-alquila, ciclo-alquenila, arila ou heterearila opcionamente substituídas ou um carbo- ou hetero-ciclo não aromárico opcionalmente substituído, W^ 1^W ^ 2^C=N-, cujo W^ 1^ é alquila, alquenila, alquinila, ciclo-alquila, cilco-alquenila, arila ou heteroarila opcionalmente substituídas e W^ 2^ é hidrogênio ou W^ 1^; R^ 2^ é hidrogênio ou alquila ou ciclo-alquila opcionalmente halogenada; R^ 3^ é alquila, ciclo-alquila ou fenila-alquiola opcionalmente substituídas; R^ 4^ é hidrogênio ou um dos radicais R^ 3^, ou R^ 3^ e R^ 4^ juntos com átomo de C ao qual eles estão ligados formam um carbo- ou hetero-ciclo saturado opcionalmente substituídos; R^ 5^ é um dos radicais R^ 2^; R^ 6^ é alquila, alquenila, alquinila, ciclo-alquila, ciclo-alquenila, arila ou heteroarila opcionalmente substituídas, um carbo- ou hetero-ciclo não aromático opcionalmente substituído ou, se R^ 3^ = isopropila, hidrogênio; R^ 7^ é um dos radicais R^ 6^ exceto hidrogênio; X^ 1^, X^ 2^ e X^ 3^ são uma cada caso oxigênio ou enxofre. Também são descritos processos para a preparação deles, agentes que os contêm, o uso deles e os produtos intermediários (IV). nos quais X^ 3^ é oxigênio e R^ 3^ é um grupo CH(CH~ 3~)~ 2~, CH~ 2~CH(CH~ 3~)~ 2~ ou CH(CH~ 3~)C~ 2~H~ 5~.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.4
31/12/2002
RPI 1669
#9.1
30/10/2001
RPI 1608
#1.3
09/06/1998
RPI 1433
#1.3
23/09/1997
RPI 1399
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.