COMPOSIÇÃO COSMÉTICA BASEADA EM COMPOSTOS FOSFATO QUATERNÁRIO E DIÉSTERES DE POLIETILENO GLICOL, USO DA DITA COMPOSIÇÃO, PROCESSO DE REMOÇÃO DE MAQUIAGEM E DE LIMPEZA

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

Patente de Invenção: "COMPOSIÇÃO COSMÉTICA BASEADA EM COMPOSTOS DE FOSFATO QUATERNÁRIO E DIÉSTERES DE POLIETILENO GLICOL, USO DA DITA COMPOSIÇÃO, PROCESSOS DE REMOÇÃO DE MAQUIAGEM E DE LIMPEZA". A presente invenção relaciona-se com uma nova composição cosmética contendo um veículo consistindo de uma fase graxa e uma fase aquosa, incluindo um diéster de polietileno glicol (i) e um composto de fosfato quaternário de fórmula (I): na qual R é uma amina terciária tendo pelo menos 6 atómos de carbono, a qual pode ser cíclica, alifática, aromática ou heterocíclica; X é um ânion, preferivelmente um haleto; A é um metal alcalino; X e Y são dois números inteiros tal que (X+Y)=3, não sendo possível para X ser zero. A presente invenção também relaciona-se com o uso da referida composição para remover maquiagem e/ou limpeza da pele.