Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
Dados do pedido
Número
PI9500584Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 15/02/1995, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/03/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
R. A. (pessoa física)
FR
Inventores
A. G. (pessoa física)
FR
C. V. (pessoa física)
FR
G. E. (pessoa física)
FR
G. L. (pessoa física)
FR
J. B. (pessoa física)
FR
J. P. (pessoa física)
FR
P. D. (pessoa física)
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
94 02135 · 17/02/1994
Resumo técnico
A presente invenção trata de derivados de 2-imidazolin-5-onas, de fórmula geral da fig (I) na qual: - R~ 1~ é H, ou um grupo vinila ou alila, ou um radical alquila ou haloalquila; - n = 0 ou 1; Y é O ou S; - R~ 2~ é um grupo alquila ou haloalquila, ou o grupo ciclopropila; - R~ 3~ é um radical arila ou heteroarila, eventualmente substituído, compreendendo notadamente fenila, naftila; - R~ 4~ representa um átomo de hidrogênio e diversos radicais em que um é um radical formila ou aroíla, um radical acila de 2 a 6 átomos de carbono; - R~ 5~ é notadamente H ou o grupo hidróxi, mercapto, nitro, ciano, tiocianato ou azido; ou um radical alquila ou cicloalquila eventualmente substituído; - W é O, S ou SO; - Ar~ 1~ é um radical divalente, eventualmente substituído, que é derivado de um radical arila ou heteroarila, compreendendo, notadamente, os radicais fenila, naftila, tienila; - Ar~ 2~ é um sistema mono ou biciclo de 5 a 10 átomos, eventualmente substituído, que é aromático, saturado ou insaturado, e que é ou um sistema carbocíclico, ou um sistema heterocíclico contendo de 1 a 4 heteroátomos escolhidos dentre O, S ou N; - X é notadamente -C(O)NH-, -NHC(O)NH-, -SO~ 2~NH-, -CH~ 2Õ-, -CH~ 2~NH-, -CH~ 2~-. A presente invenção trata igualmente da preparação destes compostos e de sua utilização como fungicidas de largo espectro.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
#3.1
24/10/1995
RPI 1299
#2.1
18/04/1995
RPI 1272
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