Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
referente ao despacho 24.3 na RPI 2066 de 10/08/2010, e comprovar o recolhimento da 17ª,18ª e 19ª anuidades.
24/09/2013
RPI 2229
Dados do pedido
Número
PI9401521Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 18/03/2003 e depois extinta em 24/09/2013. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Eastman Kodak Company
US
Reckitt Benckiser INC
US
Reckitt & Colman Inc.
US
Inventores
A. S. (pessoa física)
US
B. G. (pessoa física)
US
C. B. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/049,884 · 19/04/1993
Resumo técnico
Foi descoberta uma composição de limpeza sinérgica que compreende uma solução aquosa de um componente de composto de amônio quaternário; um componente tenso-ativo não iônico; e um solvente de éter de glicol. Supreendentemente, a combinação do componente de composto de amônio quaternário, o componente de tenso-ativo não iônico e o solvente de éter de glicol fornecem um efeito sinérgico em que a composição de limpeza funciona com um baixo nível de componente de composto de amônio quaternário, enquanto ainda mantém pelo menos uma das seguintes propriedades desejáveis: uma eficácia de limpeza aceitável, um baixo nível de irritação ou perfil de toxidez; e/ou um amplo espectro de atividade antimicrobial.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
referente ao despacho 24.3 na RPI 2066 de 10/08/2010, e comprovar o recolhimento da 17ª,18ª e 19ª anuidades.
24/09/2013
RPI 2229
Referente 11a., 12a., 13a., 14a., 15a. e 16a. anuidades.
10/08/2010
RPI 2066
#25.4
Alterado de: Reckitt and Colman Inc.
30/08/2005
RPI 1808
#16.1
18/03/2003
RPI 1680
#9.1
10/12/2002
RPI 1666
#6.1
01/10/2002
RPI 1656
#6.1
04/06/2002
RPI 1639
#7.1
02/01/2002
RPI 1617
#4.1
11/03/1997
RPI 1371
11/06/1996
RPI 1332
#3.1
27/12/1994
RPI 1256
#2.1
21/06/1994
RPI 1229
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