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Dado oficial do INPI

PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, MÉTODOS PARA PROVER UMA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E PARA PREPARAR O PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E, SUBSTRATO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2018018662

Dados do pedido

Número

112019015879

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/02/2018

Publicação

14/04/2020

PCT

US2018018662

Andamento no INPI

  1. Depósito20/02/18
  2. Publicação14/04/20
  3. Exame
  4. Deferimento19/09/23
  5. Concessão07/11/23
  6. Em vigor20/02/38

Patente concedida em 07/11/2023 e em vigor até 20/02/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:20/02/2038

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/11/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EASTMAN KODAK COMPANY

US

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Inventores

B. U. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

O. M. (pessoa física)

US

O. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

15/447,651 · 02/03/2017

Resumo técnico

Precursores de chapa de impressão litográfica são preparados com um substrato específico e uma ou mais camadas convertíveis em imagem sensíveis à radiação. O substrato inventivo é preparado por dois processos de anodização separados para prover uma camada de óxido de alumínio interna tendo uma espessura seca média (Ti) de 650 a 3.000 nm e inúmeros microporos internos tendo um diâmetro de microporo interno médio (Di) de < 15 nm. Uma camada de óxido de alumínio externa formada compreende inúmeros microporos externos tendo um diâmetro de microporo externo médio (Do) de 15 a 30 nm; uma espessura seca média (To) de 130 a 650 nm; e uma densidade de microporo (Co) de 500 a 3.000 microporos/µm2. A razão de Do para Di é maior que 1,1:1 e Do em nanômetros e a densidade de microporo (Co) de camada de óxido de alumínio externa em microporos/µm2, são definidos adicionalmente pela porosidade (Po) de camada de óxido de alumínio externa de acordo com a seguinte equação: 0,3 < Po < 0,8, em que Po é 3,14(Co)(Do2)/4.000.000.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/02/2018, observadas as condições legais

07/11/2023

RPI 2757

Deferimento

#9.1

19/09/2023

RPI 2750

Parecer de pré-exame

#6.23

13/09/2022

RPI 2697

Adição na publicação

#15.35

19/10/2021

RPI 2650

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/04/2020

RPI 2571

Alteração de dados cadastrais

#1.1

13/08/2019

RPI 2536

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