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Dado oficial do INPI

PROCESSO E APARELHO PARA TRATAR UM SUBSTRATO SUBSTANCIALMENTE OPACO A RADIAÇÃO DE LASER OU INCAPAZ DE TRANSMITIR RADIAÇÃO DE LASER SEM ABSORVER QUANTIDADES SUBSTÂNCIAS DA MESMA E SUBSTRATO SUBSTANCIALMENTE OPACO A LASER E QUE NÃO TRANSMITE LUZ DE LAZER SEM ABSORVER QUANTIDADES SUBSTANCIAIS DE ENERGIA DE LASER

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · GB1993000872

Dados do pedido

Número

PI9306293

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/04/1993

Publicação

30/06/1998

PCT

GB1993000872

Andamento no INPI

  1. Depósito27/04/93
  2. Publicação30/06/98
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 19/03/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

The Minister of Agriculture Fisheries and Food in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland

GB

Inventores

M. F. (pessoa física)

GB

N. L. (pessoa física)

GB

R. C. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

9209103.2 · 27/04/1992

Resumo técnico

Patente de Invenção "PROCESSO E APARELHO PARA TRATAR UM SUBSTRATO SUBSTANCIALMENTE OPACO A RADIAÇÃO DE LASER OU INCAPAZ DE TRANSMITIR RADIAÇÃO DE LASER SEM ABSORVER QUANTIDADE SUBSTANCIALMENTE DA MESMA E SUBSTRATO SUBSTANCIALMENTE OPACO A LASER E QUE NÃO TRANSMITE LUZ DE LASER SEM ABSORVER QUANTIDADE SUBSTANCIAIS DE ENERGIA DE LASER". A presente invenção se refere a um processo para tratar substratos com o fim de reduzir a população de organismos contaminantes associados com os mesmos, particularmente ao tratamento de alimentos, materiais propagativos e itens destinados ao uso em aplicações veterinárias ou médicas. O processo dirige a radiação de laser ao substrato, assim o tipo e quantidade de radiação de laser são selecionados de modo a tornar os organismos associados com o substrato inviáveis, enquanto deixando as propriedades do próprio substrato substancialmente inalterados. Aparelho apropriado para tratamento de vários substratos é descrito, com uma fonte de radiação de laser (9,28) e meios (26, 27,29) para manipular o substrato (24).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª, 6ª, 7ª, 8ª e 9ª anuidades.

19/03/2002

RPI 1628

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

30/06/1998

RPI 1436

Monitoramento de patentes

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