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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE PÓS-TRATAMENTO EM CHAPAS DE IMPRESSÃO FOTOSSENSÍVEIS

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9102725

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/06/1991

Publicação

12/01/1993

Andamento no INPI

  1. Depósito28/06/91
  2. Publicação12/01/93
  3. Exame21/03/95
  4. Deferimento06/02/96
  5. Concessão25/02/97
  6. Expirado29/06/10

Carta-patente expirada em 29/06/2010: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/06/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. B. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventores

C. O. (pessoa física)

BR

M. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

Esta invenção se refere ao tratamento executado em chapas para off-set seco, já reveladas e gravadas com o objetivo de aumentar a capacidade de tiragem das ditas chapas. O tratamento consiste em submetê-las a aquecimento em intervalos determinados, sendo que entre cada invervalo de aquecimento existe uma fase de resfriamento à temperatura ambiente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 28/06/2006

29/06/2010

RPI 2060

Concessão da patente

#16.1

25/02/1997

RPI 1369

Notificação para pagamento de retribuição

#13.1

16/07/1996

RPI 1337

Deferimento

#9.1

06/02/1996

RPI 1314

Solicitação de exame técnico

#4.1

21/03/1995

RPI 1268

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/01/1993

RPI 1154

Pedido de patente depositado

#2.1

03/03/1992

RPI 1109

Monitoramento de patentes

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