Adição na publicação
#15.35
01/06/2021
RPI 2630
Dados do pedido
Número
PI1008892Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2010000435 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 01/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Bayer Materialscience LLC
US
Inventores
M. D. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
12/389,510 · 20/02/2009
Resumo técnico
SISTEMA DE FORMAÃÃO DE ESPUMA COM PRESSÃO DE VAPOR REDUZIDAA presente invenção refere-se a uma composição reativa ao isocianato contendo um agente de insuflação que inclui HFC 134a e água, caracterizada pela pressão do vapor que é mais baixa do que aquela de composições comparáveis que não incluam a composição de estabilização da presente invenção. A composição de estabilização da presente invenção inclui um nonilfenol etoxilado e carbonato de propileno. Esta composição de estabilização é incluÃda na composição reativa ao isocianato em uma quantidadesuficiente para promover a solubilidade do agente de insuflação. A composição reativa ao isocianato pode ser armazenada em condições ambientes do que sob pressão e pode ser misturada manualmente com um isocianato para a produção de uma espuma. A composição reativa ao isocianato que contém o agente de insuflação da presente invenção pode ser usada para a produção de espumas que tenham boas propriedades fÃsicas depois de armazenagem em temperatura e pressão ambientes durante perÃodos tão longos quanto 3 meses.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
01/06/2021
RPI 2630
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2384 de 13-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
10/01/2017
RPI 2401
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
13/09/2016
RPI 2384
#1.3
01/03/2016
RPI 2356
#1.1
27/11/2012
RPI 2186
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