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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE UM COMPONENTE ORTODÔNTICO CERÂMICO POLICRISTALINO E COMPONENTE ORTODÔNTICO CERÂMICO POLICRISTALINO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · AT2010000178

Dados do pedido

Número

PI1005816

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/05/2010

Publicação

10/09/2019

PCT

AT2010000178

Andamento no INPI

  1. Depósito20/05/10
  2. Publicação10/09/19
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

PBD, PATENT & BUSINESS DEVELOPMENT AG

CH

Inventores

M. H. (pessoa física)

AT

Dados técnicos

Prioridades unionistas

AT

A 793/2009 · 20/05/2009

Resumo técnico

"PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE UM COMPONENTE ORTODÔNTICO CERÂMICO POLlCRISTALINO E COMPONENTE ORTODÔNTICO CERÂMICO POLlCRISTALINO" O qual é indicado pela referência (1), sendo definido como um bráquete, onde o pó usado para a formação do componente cerâmico policristalino (1), é moldado, mediante adição de um agente aglutinante, bem como mediante adição de materiais complementares, para formar um corpo básico, sendo que, em seguida, esse corpo básico é sinterizado, o componente cerâmico policristalino (1) tem o corpo básico sinterizado em uma faixa da temperatura com um limite inferior acima de 1900 °C, principalmente 2100 °C, e um limite superior de 2500 °C, principalmente 2400 °C, preferencialmente 2200 °C, durante um período em um limite inferior de 3 horas, principalmente 5 horas, preferencialmente 7 horas, até um limite superior de 24 horas, principalmente 15 horas, preferencialmente 10 horas; em seguida, o componente sinterizado { (1) é resfriado até a temperatura ambiente, sendo que o material do componente ortodôntico policristalino (1) é formado com uma translucidez integrada no caso de uma espessura de 0,5 mm em um limite inferior de 70%, principalmente 85% e um limite Superior de 100%.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

05/10/2021

RPI 2648

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

28/07/2020

RPI 2586

Exigência preliminar

#6.21

28/01/2020

RPI 2560

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

24/09/2019

RPI 2542

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/09/2019

RPI 2540

1.1.1

Referente à RPI 2135 de 06/12/2011, quanto aos itens (54) e (72).

19/06/2018

RPI 2476

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/12/2011

RPI 2135

Monitoramento de patentes

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