Adição na publicação
#15.35
21/09/2021
RPI 2646
Dados do pedido
Número
PI1005158Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2010000175 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
JP
Inventores
I. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2009-005690 · 14/01/2009
Resumo técnico
lnibidor e método para evitar escamação à base de sílica.O presente invento descreve um agente de tratamento de água que compreende um polímero não iônico específico e um composto de fósforo e pode exibir a capacidade de inibir a deposição de escamas baseadas em sílica sob uma ampla gama de condições de qualidade de água e condições de temperatura; e um método para tratar a água. O inibidor de escamas baseadas em sílica compreende um polímero não iônico e um composto de fósforo, o polímero não iônico sendo um polímero formado pela reação de uma ligação dupla insaturada e compreendendo unidades derivadas de pelo menos um monômero escolhido dentre o grupo que consiste de (met)acrilamida, (met)acrilamida N-substituída e N-vinil-lactama; e um ou mais polímeros tendo um grupo éter e escolhidos dentre o grupo que consiste de adutos de álcool alquílico / óxido de polialquileno, adutos de ácido monocarboxílico alifático /óxido de polialquileno, e adutos de álcool polivinílico / óxido de polialquileno.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
21/09/2021
RPI 2646
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2549 de 12-11-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/03/2020
RPI 2565
#8.6
Referente à 10ª anuidade.
12/11/2019
RPI 2549
#6.21
24/09/2019
RPI 2542
#6.6.1
14/05/2019
RPI 2523
#1.3
24/04/2019
RPI 2520
#1.1
06/12/2011
RPI 2135
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