Parecer de pré-exame
#6.23
18/02/2026
RPI 2876
Dados do pedido
Número
112024002894Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2022011877 O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.
Última movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
JP
Inventores
A. F. (pessoa física)
SG
X. W. (pessoa física)
SG
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2021-159591 · 29/09/2021
Resumo técnico
AGENTE DE LIMPEZA, LÍQUIDO DE LIMPEZA E MÉTODO DE LIMPEZA PARA MEMBRANAS DE OSMOSEREVERSA DE POLIAMIDA AROMÁTICA. A presente invenção refere-se a um agente de limpeza, um líquido de limpeza e um método de limpeza, capazes de remover eficazmente um contaminante que não pode de ser suficientemente removido por líquidos de limpeza convencionais nos casos em que membranas de osmose reversa de poliamida aromática usadas em tratamentos de água são contaminadas e os desempenhos dessas membranas, como fluxo de permeação e taxa de dessalinização, são deteriorados. A presente invenção fornece um agente de limpeza para membranas de osmose reversa de poliamida aromática, sendo o agente de limpeza composto por uma solução aquosa com pH igual ou superior a 13 contendo um halogênio estabilizado, um agente quelante que contém uma ou mais substâncias selecionadas dentre ácidos carboxílicos alifáticos sem grupo amino, compostos de ácido fosfônico sem grupo amino, ácidos polifosfóricos e seus sais, e um agente alcalino. De acordo com a presente invenção, uma membrana de osmose reversa de poliamida aromática é limpa com a utilização de um líquido de limpeza composto por uma solução aquosa deste agente de limpeza. Um composto de cloramina que é obtido misturando um composto tendo um grupo amino primário com ácido hipocloroso e/ou hipoclorito é adequado para uso como halogênio estabilizado.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#6.23
18/02/2026
RPI 2876
#1.3
21/05/2024
RPI 2785
#1.1
27/02/2024
RPI 2773
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