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Dado oficial do INPI

SISTEMA DE PÓS-TRATAMENTO DE EXAUSTÃO COM DISPOSITIVO AQUECIDO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1004311

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/07/2010

Publicação

15/05/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito21/07/10
  2. Publicação15/05/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 21/07/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/04/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

International Engine Intellectual Property Company, LLC

US

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Inventores

G. G. (pessoa física)

US

V. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

12/511,132 · 29/07/2009

Resumo técnico

SISTEMA DE PÓS-TRATAMENTO DE EXAUSTÃO COM DISPOSITIVO AQUECIDO.A presente invenção refere-se a um sistema pós-tratamento de exaustão (10) para um veículo sendo dotado de um motor (14) que inclui uma passagem fluida (20) se estendendo do motor para um ambiente (18) para comunicar fluidicamente o gás de escapamento (F), e um catalisador de redução NOx (28) disposto na passagem fluida e a jusante do motor. Um injetor (34) é disposto a jusante do motor (14) e a montante do catalisador de redução NOx (28) na passagem fluida (20) para injetar um redutor (36) na passagem fluida. Um dispositivo de rede aquecido (44) é disposto na passagem fluida a jusante do injetor (34) e a montante do catalisador de redução NOx (28). O redutor (36) que é injetado do injetor (34) colide com o dispositi- vo de rede aquecido (44).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

29/04/2014

RPI 2260

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

31/12/2013

RPI 2243

Publicação do pedido de patente

#3.1

15/05/2012

RPI 2158

Pedido de patente depositado

#2.1

02/08/2011

RPI 2117

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