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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ELETRODO COM BAIXA TEOR DE HIDROGÊNIO E BAIXA ABSORÇÃO DE UMIDADE

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1003876

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/10/2010

Publicação

13/02/2013

Andamento no INPI

  1. Depósito07/10/10
  2. Publicação13/02/13
  3. Exame
  4. Deferimento19/11/19
  5. Concessão03/12/19
  6. Em vigor07/10/30

Patente concedida em 03/12/2019 e em vigor até 07/10/2030. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:07/10/2030

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Última movimentação publicada pelo INPI: 03/12/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CBR PARTICIPAÇÕES LTDA.

MG, BR

G. PARETO EMPREENDIMENTOS IMOBILIÁRIOS LTDA.

RJ, BR

Inventores

A. J. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ELETRODO COM BAIXO TEOR DE HIDROGENIO E BAIXA ABSORÇÃO DE UMIDADE. Consiste a um processo para a produção de eletrodo revestido comelementos químicos que proporcionam a reação com a umidade no arco elétrico, elimina a água (H20) por reação química, diminuindo drasticamente o teor de hidrogênio (H2) no metal de solda, utiliza a uma temperatura de 360 , o forno de cura com uma duração de cinco minutos de cura do polímero, mantem as propriedades físicas e químicas dos eletrodos com baixos teores de hidrogênio, reativos com qualquer umidade residual, sem a necessidade de tratamento prévio do eletrodo antes do seu uso.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 07/10/2010, observadas as condições legais

03/12/2019

RPI 2552

Deferimento

#9.1

19/11/2019

RPI 2550

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

30/07/2019

RPI 2534

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

19/02/2019

RPI 2511

Transferência deferida

#25.1

19/09/2017

RPI 2437

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/02/2013

RPI 2197

Pedido de patente depositado

#2.1

21/06/2011

RPI 2111

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