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Dado oficial do INPI

RADIADOR DE DOIS ESTÁGIOS COM EMITÂNCIA VARIÁVEL PARA USO EM VÁCUO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1003427

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/08/2010

Publicação

13/01/2015

Andamento no INPI

  1. Depósito26/08/10
  2. Publicação13/01/15
  3. Exame
  4. Deferimento08/09/20
  5. Concessão06/10/20
  6. Em vigor26/08/30

Patente concedida em 06/10/2020 e em vigor até 26/08/2030. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:26/08/2030

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Depositantes e inventores

Depositantes

INSTITUTO NACIONAL DE PESQUISAS ESPACIAIS - INPE

SP, BR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

F. S. (pessoa física)

BR

V. V. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

RADIADOR DE DOIS ESTÁGIOS COM EMITÂNCIA VARIÁVEL PARA USO EM VÁCUO. A presente invenção refere-se a um radiador para dissipação de calor por troca radiativa composto por dois estágios, interno e externo. Os estágios são conectados fisicamente através de arruelas isolantes para eliminar ou minimizar a troca de calor por condução entre si. As superficies internas dos dois estágios são aletadas e cobertas com um revestimento que tem o valor da sua emissividade térmica dependente da temperatura. A superficie externa do estágio externo é coberta com material com baixa absortividade no espectro solar. A emissividade da superficie externa no espectro mfravermelho pode ser tanto constante e alta quanto variável em função da temperatura. A função do estágio interno é receber calor de uma fonte dissipadora, enquanto a do externo é de rejeitar este calor para o ambiente. A troca de calor entre os dois estágios se dá primordialinente por radiação entre suas superficies internas. Como a emissividade do revestimento das mesmas é diretamente proporcional à temperatura das supefficies, o presente invento funciona como uma espécie de válvula térmica entre a fonte dissipadora e o ambiente, permitindo um controle automático e passivo da temperatura da fonte.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 06/10/2020, observadas as condições legais

06/10/2020

RPI 2596

Deferimento

#9.1

08/09/2020

RPI 2592

Exigência preliminar (variante)

#6.22

09/06/2020

RPI 2579

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

08/01/2019

RPI 2505

8.7

12/01/2016

RPI 2349

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 5a. anuidade(s).

15/09/2015

RPI 2332

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/01/2015

RPI 2297

Pedido de patente depositado

#2.1

25/11/2014

RPI 2290

Publicação anulada

#2.6

ANULADA A PUBLICAÇÃO POR TER SIDO INDEVIDA2.5 na RPI 2286 DE 29/10/2014

18/11/2014

RPI 2289

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

29/10/2014

RPI 2286

Publicação anulada

#2.6

ANULADA A PUBLICAÇÃO POR TER SIDO INDEVIDA2.1 na RPI 2107 de 24/05/2011

21/10/2014

RPI 2285

Pedido de patente depositado

#2.1

24/05/2011

RPI 2107

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