Transferência deferida
#25.1
15/10/2019
RPI 2545
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Dado oficial do INPI
UTILIZAÇÃO COSMÉTICA DE MICROORGANISMO PROBIÓTICO E PROCESSO DE TRATAMENTO COSMÉTICO PARA PREVENIR E/OU TRATAR DERMATITE IRRITANTE DE CONTATO NÃO ALÉRGICA
Em AnálisePatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI1000537Tipo
Patente de Invenção
Depósito
04/03/2010
Publicação
22/03/2011
Andamento no INPI
- Depósito04/03/10
- Publicação22/03/11
- Exame
- Deferimento18/07/17
- Concessão10/10/17
- Em vigor04/03/30
Patente concedida em 10/10/2017 e em vigor até 04/03/2030. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:04/03/2030
Última movimentação publicada pelo INPI: 15/10/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
L'Oreal
FR
NESTEC S.A.
CH
SOCIÉTÉ DES PRODUITS NESTLÉ S.A.
CH
Inventores
A. G. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
09 51362 · 04/03/2009
US
61/202627 · 19/03/2009
Resumo técnico
UTILIZAÇÃO COSMETICA DE UMA QUANTIDADE EFICAZ DE, PELO MENOS UM MICROORGANISMO PROBJÓTICO E PROCESSO DE TRATAMENTO COSMETICO PARA PREVENIR E/OU TRATAR ASPERTURBAÇÕES CUTÂNEAS DE TIPO IRRITAÇÃO A presente invenção refere-se à utilização cosmética de uma quantidade eficaz de, pelo menos, um mieroorganismo probjótico notadamente do género Lactobacilius sp. e/ou Bifidobaeterium sp., de uma de suas frações e/ou de um de seus metabólitos, a título de ativo para limitar uma irritação cutânea.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Concessão da patente
#16.1
10/10/2017
RPI 2440
Deferimento
#9.1
18/07/2017
RPI 2428
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
04/04/2017
RPI 2413
Republicação - classificação IPC
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61K 8/99 , A61Q 19/00 , A61K 35/74 , A61P 17/00 , A61P 17/16
25/10/2016
RPI 2390
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
25/10/2016
RPI 2390
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
26/12/2012
RPI 2190
Publicação do pedido de patente
#3.1
22/03/2011
RPI 2098
Pedido de patente depositado
#2.1
28/09/2010
RPI 2073
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