Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
02/08/2016
RPI 2378
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA DE FOTORRESISTE CONTENDO ÁCIDO GLUCÔNICO PARA PROCESSAMENTO DISPOSITIVO DE MULTIMETAIS.
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2009061585
Dados do pedido
Número
PI0920830Tipo
Patente de Invenção
Depósito
22/10/2009
Publicação
22/12/2015
PCT
US2009061585 Andamento no INPI
- Depósito22/10/09
- Publicação22/12/15
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 22/10/2009, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/08/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc
US
Inventores
S. I. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
61108942 · 28/10/2008
Resumo técnico
COMPOSIÃÃO DE LIMPEZA DE FOTORRESISTE CONTENDO ÃCIDO GLUCÃNICO PARA PROCESSAMENTO DISPOSITIVO DE MUL TIMETAIS. A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza de fotorresiste microeletrônico, apropriada para limpar dispositivos microeletrônicos de multimetais, e para fazer isso sem que ocorra qualquer corrosão galvânica substancial ou significativa, quando existe uma etapa de enxágue subsequente empregando água.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
19/04/2016
RPI 2363
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
22/12/2015
RPI 2346
Alteração de dados cadastrais
#1.1
06/12/2011
RPI 2135
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