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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA MODIFICAÇÃO CONTÍNUA DE GESSO DIIDRATADO

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2009063666 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

PI0916593

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

31/07/2009

Publicação

10/11/2015

PCT

JP2009063666

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

  1. Depósito31/07/09
  2. Publicação10/11/15
  3. Exame
  4. Deferimento08/10/19
  5. Concessão22/10/19
  6. Extinto13/09/22

Patente concedida em 22/10/2019 e depois extinta em 13/09/2022. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/09/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

YOSHINO GYPSUM CO., LTD.

JP

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Inventores

I. Y. (pessoa física)

JP

K. K. (pessoa física)

JP

Y. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2008/197920 · 31/07/2008

Resumo técnico

PROCESSO PARA MODIFICAÃÃO CONTÃNUA DE GESSO DIIDRATADO E GESSO DIIDRATADO MODIFICADO OBTIDO ATRAVÃS DO PROCESSO.à divulgado um processo para a modificação contínua de gesso diidratado. O processo inclui uma etapa de hemiidratado de calcinação de gesso diidratado com uma matéria-prima em gesso hemiidratado e uma etapa de recristalização de hidratação e recristalização de gesso hemiidratado em uma pasta aquosa para converter o gesso hemiidratado em gesso diidratado modificado de uma forma cristalina diferente do gesso diidratado como matéria-prima. Na etapa de recristalização, a pasta aquosa em um tanque de reação de recristalização é mantida em uma temperatura constante sob agitação de modo que a pasta aquosa se torna uniforme, e uma taxa de alimentação do gesso hemiidratado para o tanque de reação de recristalização e uma taxa de descarga do gesso diidratado modificado e recristalizado do tanque de reação de recristalização são controladas de modo que a taxa de alimentação e a taxa de descarga tornam-se substancialmente iguais uma à outra, pelo que a alimentação do gesso hemiidratado e a descarga do gesso diidratado modificado e recristalizado são conduzidas continuamente ou intermitentemente. De acordo com o processo, gesso diidratado como uma matéria-prima de partida pode ser convertido em gesso diidratado modificado de alta pureza de cristais grandes através de recristalização de gesso diidratado de partida após ele ser uma vez calcinado em gesso hemiidratado embora tal gesso diidratado modificado não seja disponível em geral.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2681 de 24-05-2022 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

13/09/2022

RPI 2697

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 13ª anuidade.

24/05/2022

RPI 2681

Concessão da patente

#16.1

22/10/2019

RPI 2546

Deferimento

#9.1

08/10/2019

RPI 2544

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

21/05/2019

RPI 2524

6.20

O depositante deve responder a exigência formulada neste parecer por meio do serviço de código 206 em até 60 (sessenta) dias, a partir da data de publicação na RPI, sob pena do arquivamento do pedido, de acordo com o Art. 34 da LPI.Publique-se a Exigência (6.20).

16/10/2018

RPI 2493

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

17/04/2018

RPI 2467

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/11/2015

RPI 2340

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/09/2011

RPI 2122

Monitoramento de patentes

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