Transferência deferida
#25.1
27/07/2021
RPI 2638
Dados do pedido
Número
PI0916080Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2009065225 Patente concedida em 20/12/2016 e em vigor até 16/11/2029. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:16/11/2029
Última movimentação publicada pelo INPI: 27/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
UNILEVER IP HOLDINGS B.V.
PB
UNILEVER N.V.
NL
Inventores
J. R. (pessoa física)
IN
M. B. (pessoa física)
IN
S. D. (pessoa física)
IN
S. B. (pessoa física)
IN
T. B. (pessoa física)
IN
V. N. (pessoa física)
IN
Classificação IPC
Prioridades unionistas
IN
2443/MUM/2008 · 20/11/2008
Resumo técnico
"COMPOSIÃÃO DE LIMPEZA PESSOAL"A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza pessoal lÃquida ou sólido-macia que utiliza as propriedades de detergência de novos materiais que são mais eficientes, mais baratos e uma alternativa ecológica aos sabonetes convencionais ou tensoativos sintéticos. A presente invenção se refere mais particularmente à uma composição de limpeza em formato de lÃquido, gel ou creme. A presente invenção fornece uma composição de limpeza pessoal lÃquida ou sólido-macia que compreende (i) de 1 a 50% das partÃculas de argila tratadas; e (ii) uma base cosmeticamente aceitável; em que ditas partÃculas de argila tratadas são assimétricas 1: 1 ou 2:1 :1 com folhas tetraédricas e octaédricas alternadas terminando em uma folha tetraédrica em um plano da superfÃcie externa e uma folha octaédrica em outro plano da superfÃcie externa, com um ácido graxo de comprimento de cadeia de carbono de 10 a 22 ligado ao cátion coordenado em um plano da superfÃcie externa mencionado.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.1
27/07/2021
RPI 2638
#16.1
20/12/2016
RPI 2398
#9.1
01/11/2016
RPI 2391
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61K 8/04 , A61K 8/26 , A61K 8/36 , A61K 8/81 , A61Q 19/10
19/07/2016
RPI 2376
#7.1
12/07/2016
RPI 2375
#1.3
10/11/2015
RPI 2340
#1.1
06/09/2011
RPI 2122
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