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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE PRODUÇÃO DE SILÍCIO CRISTALINO DE QUALIDADE FOTOVOLTAICA POR ACRÉSCIMO DE IMPUREZAS DOPANTES E CÉLULA FOTOVOLTAICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR2009000346

Dados do pedido

Número

PI0911627

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/03/2009

Publicação

13/10/2015

PCT

FR2009000346

Andamento no INPI

  1. Depósito27/03/09
  2. Publicação13/10/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/04/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. S. (pessoa física)

FR

Inventores

H. L. (pessoa física)

FR

J. K. (pessoa física)

FR

R. E. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

08 01998 · 11/04/2008

Resumo técnico

PROCESSO DE PRODUÃÃO DE SILÃCIO CRISTALINO DE QUALIDADE FOTOVOLTAICA POR ACRÃSCIMO DE IMPUREZAS DOPANTES E CÃLULA FOTOVOLTAICA.A presente invenção refere-se à produção de silício cristalino de qualidade fotovoltaica é realizada por cristalização de uma carga de silício fundido, cuja soma das concentrações iniciais em elementos dopantes doadores e em elementos dopantes aceitadores é superior a 0,1 ppma e dos quais cada uma das concentrações em elementos dopantes aceitadores e doadores é inferior a 25 ppma. Pelo menos uma quantidade pré-definida de um material dopante que tem um coeficiente de segregação inferior a 0,1 é acrescentada à carga. Esse acréscimo permite a realização de um silício cristalizado, cuja diferença entre os perfis de dopagem de tipo doadores e aceitador está compreendida entre 0,1 e 5 ppma sobre pelo menos 50 % do silício solidificado. Um silício que apresenta uma concentração em pelo menos um dos dopantes é superior ou igual a 5 ppma e uma diferença entre esses dois tipos de dopante inferior ou igual a 5ppma é integrado em uma célula fotovoltaica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2344 de 08-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/04/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.

08/12/2015

RPI 2344

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

13/10/2015

RPI 2336

Alteração de dados cadastrais

#1.1

30/08/2011

RPI 2121

Monitoramento de patentes

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