Dados do pedido
Número
112013001064Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR2011000385 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/08/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. S. (pessoa física)
FR
Siltronix
FR
Inventores
E. F. (pessoa física)
FR
H. L. (pessoa física)
FR
J. S. (pessoa física)
FR
M. F. (pessoa física)
FR
R. E. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
10/03009 · 16/07/2010
Resumo técnico
PROCESSO DE DOPAGEM DE UM MATERIAL SEMICONDUTOR. A presente invenção refere-se a uma carga (4) em material semicondutor é colocada em um cadinho (1). Um recipiente sacrificial (5) fechado contendo um material dopante (6) é colocado no cadinho (1). O conteúdo do cadinho (1) é fundido, acarretando a incorporação do dopante no banho de material fundido. A elevação em temperatura é realizada sob uma pressão reduzida.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2469 de 02-05-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/08/2018
RPI 2485
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
02/05/2018
RPI 2469
#6.6.1
10/04/2018
RPI 2466
#1.3
24/05/2016
RPI 2368
#1.1
31/12/2013
RPI 2243
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