Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 23/07/2019, observadas as condições legais
23/07/2019
RPI 2533
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE UMA RESINA DE ABSORÇÃO DE ÁGUA
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · JP2009056157 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
PI0909479Tipo
Patente de Invenção
Depósito
26/03/2009
Publicação
22/12/2015
PCT
JP2009056157 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito26/03/09
- Publicação22/12/15
- Exame
- Deferimento28/05/19
- Concessão23/07/19
- Em vigor26/03/29
Patente concedida em 23/07/2019 e em vigor até 26/03/2029. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:26/03/2029
Última movimentação publicada pelo INPI: 23/07/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
JP
Inventores
K. M. (pessoa física)
JP
K. N. (pessoa física)
JP
K. I. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2008-086570 · 28/03/2008
JP
2008-117167 · 28/04/2008
JP
2008-242697 · 22/09/2008
Resumo técnico
MÃTODO PARA PRODUÃÃO DE UMA RESINA DE ABSORÃÃO DE ÃGUAà provido um método para produção de uma resina de absorção de água para produção estável e contÃnua da resina de absorção de água com propriedade industrial alta, especificamente, a resina de absorção de água com alta permeação a lÃquido. Um método da presente invenção se refere a um processo para produção de uma resina de absorção de água incluindo: uma etapa de polimerização de uma solução aquosa de um monômero insaturado; uma etapa de secagem do polÃmero de hidrogel resultante; e uma etapa de reticulação da superfÃcie após secagem; caracterizado por inclusão da etapa de transporte pneumático para transporte pneumático da substância em pó da resina de absorção de água em uma tubulação com uma aspereza de superfÃcie (Rz) da superfÃcie interna igual ou inferior a 800 nm, por emprego de gás com um ponto de orvalho de -5°C a -100°C.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
28/05/2019
RPI 2525
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/01/2019
RPI 2504
6.20
11/09/2018
RPI 2488
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
17/04/2018
RPI 2467
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
22/12/2015
RPI 2346
Alteração de dados cadastrais
#1.1
30/08/2011
RPI 2121
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