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Official data from INPI

PROCESSO E SISTEMA PARA MONITORAMENTO DO DESEMPENHO E PROGNÓSTICOS PARA VÁLVULAS DE CONTROLE PNEUMÁTICAS DE AERONAVES

ExtintaPatent

Application data

Number

PI0905485

Type

Patent

Filing

12/23/2009

Publication

06/04/2013

Applicants and inventors

Applicants

Embraer Empresa Brasileira de Aeronáutica S.A.

SP, BR

EMBRAER S.A.

SP, BR

Inventors

L. P. (pessoa física)

BR

T. A. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

61/140,357 · 12/23/2008

Abstract

MONITORAMENTO DO DESEMPENHO E PROGNÓSTICOS PARA VÁLVULAS DE CONTROLE PNEUMÁTICAS DE AERONAVES. Descreve-se uma processo que estima o estado de saúde de uma válvula de controle pneumática de uma aeronave através de medições indiretas a partir dos sensores disponíveis. As medições vindas de válvulas idênticas, operando nas mesmas condições, são comparadas. Os resíduos são convertidos em estimativas do estado de degradação de cada válvula. O histórico dos estados de degradação pode ser usado para prever o tempo esperado para uma falha.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2703 de 25-10-2022 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

02/14/2023

RPI 2719

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 13ª anuidade.

10/25/2022

RPI 2703

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 23/12/2009, observadas as condições legais

07/23/2019

RPI 2533

Deferimento

#9.1

07/02/2019

RPI 2530

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

03/19/2019

RPI 2515

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/15/2019

RPI 2506

6.20

12/04/2018

RPI 2500

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/04/2013

RPI 2213

Alteração de nome deferida

#25.4

05/28/2013

RPI 2212

Pedido de patente depositado

#2.1

08/10/2010

RPI 2066

Patent monitoring

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