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Dado oficial do INPI

CHAPÉU GERADOR DE ÍON NEGATIVO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
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Dados do pedido

Número

PI0903468

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

04/09/2009

Publicação

03/11/2010
Ver no INPI

Andamento no INPI

  1. Depósito04/09/09
  2. Publicação03/11/10
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 25/11/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CAP1 CO., LTD.

KR

Inventores

C. L. (pessoa física)

KR

Dados técnicos

Classificação IPC

A42C 1/00A61H 39/00

Prioridades unionistas

KR

1020090001399 · 08/01/2009

Resumo técnico

CHAPEU GERADOR DE ÍON NEGATIVO, é configurado de modo que um espaço pré determinado é formado entre o interior do chapéu e uma faixa inferior da superfície interna e um tecido gerador de íon negativo é inserido no espaço, evitando dessa forma que o revestimento gerador de íon negativo seja facilmente desgastado ao invés de esticar ou aumentar a faixa.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2270 de 08/07/2014.

25/11/2014

RPI 2290

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

08/07/2014

RPI 2270

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/11/2010

RPI 2078

Pedido de patente depositado

#2.1

02/02/2010

RPI 2039

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