Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61F 2/90; A61F 2/88; A61F 2/06; A61F 2/84; A61F 2/82; A61F 2/00.
27/03/2018
RPI 2464
Dados do pedido
Número
PI0820906Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2008010102 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Joline Gmbh & CO. KG
DE
Translumina GMBH
DE
Inventores
B. B. (pessoa física)
DE
G. G. (pessoa física)
DE
M. E. (pessoa física)
DE
M. L. (pessoa física)
DE
S. K. (pessoa física)
DE
S. K. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2007 060 497.3 · 06/12/2007
Resumo técnico
SUPORTE DE VASO IMPLANTÃVEL. A presente invenção refere-se a um suporte de vaso radialmente expansÃvel (22) para implantação em um vaso secundário (12) ramificando de um vaso principal (11) em uma abertura do vaso (15) que é fornecido com uma seção principal distal (25) que, no estado expandido, tem ligação com a parede interna (19) do vaso secundário (12), e com um segmento proximal (24) que, no estado implantado do suporte do vaso (22), se encontra na abertura do vaso (15). O segmento proximal (24) une a seção principal (25) e permite uma maior expansão radial do que a seção principal.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61F 2/90; A61F 2/88; A61F 2/06; A61F 2/84; A61F 2/82; A61F 2/00.
27/03/2018
RPI 2464
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
05/04/2016
RPI 2361
#8.6
Referente às 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
01/12/2015
RPI 2343
#1.3
23/06/2015
RPI 2320
#1.1
30/08/2011
RPI 2121
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