Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2307 de 24/03/2015.
28/07/2015
RPI 2325
Dados do pedido
Número
PI0711926Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2007002816 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 28/07/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Kao Corporation S.A.
ES
Inventores
H. A. (pessoa física)
ES
M. G. (pessoa física)
ES
M. O. (pessoa física)
ES
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
06380122.9 · 19/05/2006
Resumo técnico
PRECURSOR DE FRAGRÂNCIA. A invenção se refere a um composto da fórmula (I) que se segue X-CR~1~R~2~R~3~ onde - R~1~ é uma fração orgânica possuindo 6 a 24 átomos de carbono; - R~2~ é H ou uma fração orgânica possuindo 6 a 24 átomos de carbono; - R~3~ é X ou OH; - X é uma fração da fórmula (II) que se segue; ou um amônio ou sal de alquil C~1~-C~4~ amônio de uma fração da fórmula (II); onde - x é O ou 1; - y é O ou 1; - z é O ou 1; - m é um número de 2 a 10; - n é um número de O a 10; o é um número de O a 10; - R~4~ é H ou um grupo alquila C~1~-C~4~; - R~5~ é um grupo alquila ou alquenila C~6~-C~22~ ou se n ou o for pelo menos 1, um grupo acila C~7~-C~23~; - R~6~ é H ou R~5~; - R~7~ é um grupo alquileno C~1~-C~4~ que é capaz de liberar compostos de fragrância do tipo aldeído ou do tipo cetona, provendo uma liberação de longa duração dos compostos de fragrância. Esse composto pode ser incorporado às composições de condicionamento da fibra, tais como, condicionadores capilares e amaciantes de tecido, de modo a melhorar o desempenho da fragrância. O composto provê liberação controlada do substrato onde o mesmo for depositado por um período de tempo estendido.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2307 de 24/03/2015.
28/07/2015
RPI 2325
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
24/03/2015
RPI 2307
#6.1
03/03/2015
RPI 2304
#6.6
11/12/2012
RPI 2188
#1.3
22/02/2012
RPI 2146
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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