Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2290 de 25/11/2014.
14/04/2015
RPI 2310
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÃO ESTÁVEL PARA GERAR UM FLUIDO ESPESSADO CONTENDO DIÓXIDO DE CLORO, E, MÉTODO PARA PRODUZIR UMA COMPOSIÇÃO ESPESSADA DE FLUIDO DE DIÓXIDO DE CLORO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2007001721
Dados do pedido
Número
PI0706739Tipo
Patente de Invenção
Depósito
23/01/2007
Publicação
05/04/2011
PCT
US2007001721 Andamento no INPI
- Depósito23/01/07
- Publicação05/04/11
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Basf Catalysts LLC
US
Inventores
B. S. (pessoa física)
US
F. J. (pessoa física)
US
L. H. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
11/340,248 · 26/01/2006
Resumo técnico
COMPOSIÇÃO ESTÁVEL PARA GERAR UM FLUIDO ESPESSADO CONTENDO DIÓXIDO DE CLORO, E, METODO PARA PRODUZIR UMA COMPOSIÇÃO ESPESSADA DE FLUIDO DE DIÓXIDO DE CLORO Esta invenção se refere a uma composição estável e método para produzir uma composição de fluido espessada compreendendo dióxidode cloro. A composição estável inclui uma mistura contendo um clorito, uma fonte de ácido e uma componente espessante. Pelo menos um dentre clorito, a fonte de ácido e o componente espessante está na forma particulada. Em uma forma de realização, a mistura pode ser um corpo sólido unitário em que dióxido de cloro é gerado durante interação com um meio aquoso, tal como água. Uma fonte de halogênio livre pode também ser adicionada à mistura em alguns casos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
25/11/2014
RPI 2290
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/04/2011
RPI 2100
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