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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DETECÇÃO DE ELÉTRONS SECUNDÁRIOS EMITIDOS POR AMOSTRAS A ALTA TEMPERATURA

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0705548

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/06/2007

Publicação

10/02/2009

Andamento no INPI

  1. Depósito18/06/07
  2. Publicação10/02/09
  3. Exame
  4. Deferimento27/02/18
  5. Concessão08/05/18
  6. Em vigor18/06/27

Patente concedida em 08/05/2018 e em vigor até 18/06/2027. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:18/06/2027

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ABTLUS - ASSOCIAÇÃO BRASILEIRA DE TECNOLOGIA DE LUZ SÍNCROTRON

SP, BR

C. M. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

A. R. (pessoa física)

BR

C. S. (pessoa física)

BR

E. T. (pessoa física)

BR

R. S. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DETECÇÃO DE ELÉTRONS SECUNDÁRIOS EMITIDOS POR AMOSTRAS A ALTA TEMPERATURA. Novo processo e dispositivo associado para detecção de elétrons secundários a alta temperatura em amostras de interesse geral proporcionado uma imagem de alta resolução das mesmas, pela tecnologia em microscopia eletrônica de varredura. Visando o desenvolvimento desta tecnologia e permitindo obter imagens de qualidade razoável de amostras aquecidas até 1800°C permitindo o estudo de propriedades e comportamento das amostras nas condições mais próximas das de operação e/ou em condições adversas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

Reclassificação automática - A classificação anterior era: G01N 23/22

05/10/2021

RPI 2648

Concessão da patente

#16.1

08/05/2018

RPI 2470

Deferimento

#9.1

27/02/2018

RPI 2460

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

14/11/2017

RPI 2445

Alteração de nome deferida

#25.4

20/12/2016

RPI 2398

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/02/2009

RPI 1988

Pedido de patente depositado

#2.1

19/02/2008

RPI 1937

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