Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/03/2012
RPI 2150
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Dado oficial do INPI
SISTEMA DE AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO PARA LASERS REFRATIVOS E MÉTODOS ASSOCIADOS
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0703988Tipo
Patente de Invenção
Depósito
31/08/2007
Publicação
05/05/2009
Andamento no INPI
- Depósito31/08/07
- Publicação05/05/09
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 31/08/2007, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/03/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ALCON REFRACTIVEHORIZONS, INC.
US
Inventores
G. P. (pessoa física)
US
J. C. (pessoa física)
US
K. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
SISTEMA DE AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO PARA LASERS REFRATIVOS E MÉTODOS ASSOCIADOS. Um método para avaliar um desempenho de um sistema de laser de remoção inclui remover uma superfície de substrato para obter um padrão de remoção predeterminado. Um feixe de luz é direcionado através do substrato removido, e a luz refletida é recebida para detectar um padrão removido real que é comparado com o padrão removido predeterminado. A comparação resultante é exibida a um usuário de forma que o desempenho do sistema de laser pode ser avaliado. Um sistema inclui um suporte que é adaptado para segurar um substrato de remoção em um plano de tratamento. Um escáner óptico direciona um feixe de luz através do substrato removido e recebe luz refletida do mesmo para detectar um padrão removido. Um analisador compara o padrão detectado com um padrão removido predeterminado. Uma tela em comunicação de sinal com o analisador exibe uma comparação do padrão detectado e o padrão removido predeterminado.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
13/12/2011
RPI 2136
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/05/2009
RPI 2000
Pedido de patente depositado
#2.1
02/01/2008
RPI 1930
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