Dados do pedido
Número
PI0621289Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006069401 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/03/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
EVONIK OXENO GMBH
DE
Inventores
C. B. (pessoa física)
DE
D. O. (pessoa física)
CH
F. K. (pessoa física)
DE
G. B. (pessoa física)
DE
S. H. (pessoa física)
BE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2006 003 618.2 · 26/01/2006
Resumo técnico
PROCESSO PARA SEPARAÇÃO DE CATALISADORES DE COMPLEXO METÁLICO A PARTIR DE MISTURAS DE TELOMERIZAÇÃO. A presente invenção refere-se a um processo para separação de um catalisador de complexo metálico a partir de uma mistura de reação, obtenção de uma reação de telomerização na qual o catalisador de complexo metálico é separado em pelo menos uma membrana, que é melhor permeável para o produto da telomerização do que para o catalisador de complexo metálico.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
29/03/2016
RPI 2360
#8.6
Referente à 9ª anuidade.
01/12/2015
RPI 2343
#25.2
Indeferido(s) o(s) pedido(s) de transferência(s) contido(s) na petição nº 860140151277,de 05/09/2014, por ausência de cumprimento da exigência publicada na RPI nº 2319, de16/06/2015.
08/09/2015
RPI 2331
#25.3
A fim de atender a transferência, requerida através da petição nº 860140151277 de 05/09/2014, é necessário esclarecer a divergência entre o nome da empresa titular do pedido e o nome que consta no documento de cessão apresentado.
16/06/2015
RPI 2319
#1.3
06/12/2011
RPI 2135
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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