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Dado oficial do INPI

SISTEMA DE PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA É MÉTODO DE SUA PRODUÇÃO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2006314821 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

PI0619471

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/07/2006

Publicação

04/10/2011

PCT

JP2006314821

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

  1. Depósito20/07/06
  2. Publicação04/10/11
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/01/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Nippon Steel Materials CO., LTD

JP

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Inventores

K. O. (pessoa física)

JP

M. O. (pessoa física)

JP

N. I. (pessoa física)

JP

S. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2005-352672 · 06/12/2005

Resumo técnico

SISTEMA DE PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA E MÉTODO DE SUA PRODUÇÃO. A presente invenção refere-se a um sistema de produção de silício de alta pureza e um método de produção adequado para usar silício metálico de grau metalúrgico econômico como material e usando o método de refino de escória para produzir silício de alta pureza com uma pureza de 6N ou mais adequado para aplicações em baterias solares, em particular silício de alta pureza com um teor de boro de pelo menos não mais que 0,3 ppm em massa, de forma econômica em escala industrial, isto é, um sistema de produção de silício de alta pureza e um método de produção usando o método de refino de escória em que um meio de aquecimento por indução eletromagnética direta tendo a função de aquecer diretamente o silício fundido no cadinho pela indução eletromagnética é arranjado fora da superfície externa do cadinho acima e o cadinho é formado por um material resistente à oxidação pelo menos na região em que o silício fundido contata a superfície da parede interna do cadinho no momento em que o meio de aquecimento por indução eletromagnética direta é desligado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2385 de 20-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/01/2017

RPI 2401

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

20/09/2016

RPI 2385

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/10/2011

RPI 2126

Alteração de dados cadastrais

#1.1

16/08/2011

RPI 2119

Monitoramento de patentes

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