Alteração de nome deferida
#25.4
25/07/2017
RPI 2429
Dados do pedido
Número
PI0617717Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006009632 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPatente concedida em 02/06/2015 e em vigor até 05/10/2026. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:05/10/2026
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/07/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
PRIMETALS TECHNOLOGIES AUSTRIA GMBH
AT
SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH
AT
Siemens Vai Metals Technologies GMBH & CO.
AT
Inventores
B. S. (pessoa física)
AT
F. L. (pessoa física)
AT
G. B. (pessoa física)
AT
H. B. (pessoa física)
AT
Prioridades unionistas
AT
A1735/05 · 24/10/2005
Resumo técnico
MÉTODO E DISPOSITIVO PARA CARREGAMENTO DE MATÉRIA PRIMA A invenção se refere a um método para o carregamento de matéria prima, em particular, coque ou minério e, opcionalmente, finos separados de matéria prima, para o processamento em um vaso metalúrgico, em particular um alto-forno, para a produção de metal ou produtos de metal primário, em particular aço ou produtos de aço primários, compreendendo um mecanismo de carregamento, o qual tem um meio de transporte e pelo menos um dispositivo de alimentação para suprimento para o mecanismo de carregamento. O meio de carregamento tem uma abertura de saída a qual pode ser guiada ao longo de uma espiral dirigida para dentro durante o carregamento para o vaso, para a regulagem de uma cobertura pré-definida no vaso. Os materiais carregados desse modo podem ser posicionados precisamente no caso, sendo possível que finos sejam uniformemente distribuídos na região circunferencial. Figura 1.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.4
25/07/2017
RPI 2429
#16.1
02/06/2015
RPI 2317
#9.1
13/01/2015
RPI 2297
#6.1
25/06/2013
RPI 2216
#25.4
Nome alterado de: SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO.
08/05/2012
RPI 2157
#1.3
02/08/2011
RPI 2117
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