Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
01/11/2011
RPI 2130
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Dado oficial do INPI
LAMAS OU SUSPENSÃO DE SILICATO ESTRATIFICADO COM ELEVADO TEOR EM SÓLIDOS, PROCESSO PARA A SUA PREPARAÇÃO E USO DAS MESMAS
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2006006467 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
PI0612722Tipo
Patente de Invenção
Depósito
04/07/2006
Publicação
30/11/2010
PCT
EP2006006467 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito04/07/06
- Publicação30/11/10
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 04/07/2006, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 01/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
SÜD-CHEMIE AG
DE
Inventores
A. H. (pessoa física)
DE
F. R. (pessoa física)
DE
M. F. (pessoa física)
DE
U. S. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2005 031 176.8 · 04/07/2005
Resumo técnico
LAMA OU SUSPENSÃO DE SILICATO ESTRATIFICADO COM ELEVADO TEOR EM SÓLIDOS, PROCESSO PARA A SUA PREPARAÇÃO E USO DAS MESMAS. A presente invenção refere-se a uma lama ou suspensão, contendo a) pelo menos 10% em peso de pelo menos um silicato estratificado com relação ao peso total da lama ou da suspensão; b) um meio de suspensão aquoso; c) um auxiliar de dispersão, escolhido a partir de pelo menos um polietilenoglicol com um peso molecular médio de menos do que 90.000 e/ou de pelo menos um ácido poliacrílico em forma de ácido livre. Além disso, descreve-se um processo para a preparação da lama ou da suspensão, assim como a aplicação preferida da mesma.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
26/07/2011
RPI 2116
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
30/11/2010
RPI 2082
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