Concessão da patente
#16.1
09/10/2018
RPI 2492
Dados do pedido
Número
PI0609726Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006002111 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPatente concedida em 09/10/2018 e em vigor até 08/03/2026. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:08/03/2026
Última movimentação publicada pelo INPI: 09/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
PRIMETALS TECHNOLOGIES AUSTRIA GMBH
AT
SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH
AT
SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO.
AT
Inventores
A. F. (pessoa física)
AT
R. N. (pessoa física)
AT
Classificação IPC
Prioridades unionistas
AT
A511/2005 · 24/03/2005
Resumo técnico
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA TRATAMENTO DE GÁS DE ESCAPE DE INSTALAÇÕES DE SINTERIZAÇÃO. A invenção refere-se a um processo para o tratamento de gás de escape de instalações de sinterização, em que ao gás de escape de uma instalação de sinterização em um canal de gás de escape (1, 2a, 2b) é adicionado aditivo seco consistindo ao menos em agente de adsorção e recirculado no processo de corrente em suspensão e o aditivo em seguida é separado do gás de escape por filtro de tecido (3) e recirculado ao menos parcialmente. Está então previsto introduzir aditivo em ao menos um ponto (4, 5) contra a direção de fluxo do gás de escape.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
09/10/2018
RPI 2492
#9.1
25/09/2018
RPI 2490
#7.1
10/04/2018
RPI 2466
#15.11
A Classificação Anterior era: F27D 17/00
14/11/2017
RPI 2445
#25.4
21/03/2017
RPI 2411
#25.4
Nome alterado de: SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO.
08/05/2012
RPI 2157
#1.3
20/04/2010
RPI 2050
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