(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA TRATAMENTO DE GÁS DE ESCAPE DE INSTALAÇÕES DE SINTERIZAÇÃO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · EP2006002111 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

PI0609726

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/03/2006

Publicação

20/04/2010

PCT

EP2006002111

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

  1. Depósito08/03/06
  2. Publicação20/04/10
  3. Exame
  4. Deferimento25/09/18
  5. Concessão09/10/18
  6. Em vigor08/03/26

Patente concedida em 09/10/2018 e em vigor até 08/03/2026. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:08/03/2026

AlertaMarcas

Deixe seu contato e avisamos você

Acompanhamos as publicações do INPI e avisamos assim que houver movimentação neste processo.

Usamos seus dados apenas para este aviso.

Última movimentação publicada pelo INPI: 09/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

PRIMETALS TECHNOLOGIES AUSTRIA GMBH

AT

SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH

AT

SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO.

AT

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

A. F. (pessoa física)

AT

R. N. (pessoa física)

AT

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

AT

A511/2005 · 24/03/2005

Resumo técnico

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA TRATAMENTO DE GÁS DE ESCAPE DE INSTALAÇÕES DE SINTERIZAÇÃO. A invenção refere-se a um processo para o tratamento de gás de escape de instalações de sinterização, em que ao gás de escape de uma instalação de sinterização em um canal de gás de escape (1, 2a, 2b) é adicionado aditivo seco consistindo ao menos em agente de adsorção e recirculado no processo de corrente em suspensão e o aditivo em seguida é separado do gás de escape por filtro de tecido (3) e recirculado ao menos parcialmente. Está então previsto introduzir aditivo em ao menos um ponto (4, 5) contra a direção de fluxo do gás de escape.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

09/10/2018

RPI 2492

Deferimento

#9.1

25/09/2018

RPI 2490

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/04/2018

RPI 2466

Republicação - classificação IPC

#15.11

A Classificação Anterior era: F27D 17/00

14/11/2017

RPI 2445

Alteração de nome deferida

#25.4

21/03/2017

RPI 2411

Alteração de nome deferida

#25.4

Nome alterado de: SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO.

08/05/2012

RPI 2157

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

20/04/2010

RPI 2050

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.