Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2212 de 28/05/2013.
11/02/2014
RPI 2249
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE DECAPAGEM E LIMPEZA DE FEOL, PARA REMOVER O FOTORESISTOR IMPLANTADO COM ÍONS, NÃO-DECAPADO DE UM SUBSTRATO DE LÂMINAS DE SILÍCIO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2006008829
Dados do pedido
Número
PI0609587Tipo
Patente de Invenção
Depósito
13/03/2006
Publicação
20/04/2010
PCT
US2006008829 Andamento no INPI
- Depósito13/03/06
- Publicação20/04/10
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
MALLINCKRODT BAKER, INC.
US
Inventores
S. K. (pessoa física)
US
S. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/667,932 · 04/04/2005
Resumo técnico
PROCESSO DE DECAPAGEM E LIMPEZA DE FEOL, PARA REMOVER O FOTORESISTOR IMPLANTADO COM ÍONS, NÃO-DECAPADO DE UM SUBSTRATO DE LÂMINAS DE SÍLICIO. A presente invenção refere-se a uma composição de decapagem e limpeza na extremidade frontal da linha, para remover fotoresistor implantado com lons, não-decapado, de um substrato de lâmina de silício, compreendendo: (a) pelo menos um solvente orgânico de decapagem; (b) lons fluoreto de pelo menos um entre fluoreto de amônio, bifluoreto de amônio ou fluoreto de hidrogênio; (c) pelo menos um agente acidificante selecionado entre ácidos inorgânicos ou orgânicos; e (d) água, sendo que um agente oxidante também está opcionalmente presente na composição.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente á 7ª anui dade.
28/05/2013
RPI 2212
Alteração de nome deferida
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
09/08/2011
RPI 2118
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
20/04/2010
RPI 2050
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