Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
23/10/2012
RPI 2181
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2006304194 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
PI0609259Tipo
Patente de Invenção
Depósito
28/02/2006
Publicação
09/03/2010
PCT
JP2006304194 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito28/02/06
- Publicação09/03/10
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Nippon Steel Materials CO., LTD
JP
Inventores
J. K. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
N. I. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2005-062557 · 07/03/2005
Resumo técnico
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SÍLICIO DE ALTA PUREZA. A invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício econômico de alta pureza útil em uma bateria solar. É revelado um método para a produção do silício de alta pureza pela remoção do boro do silício pela oxidação incluindo começar uma reação de oxidação entre um agente oxidante e o silício fundido, e resfriar pelo menos parte do agente oxidante durante a reação.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
05/06/2012
RPI 2161
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/03/2010
RPI 2044
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