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Dado oficial do INPI

COMPOSTOS, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS QUÍMICOS E COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR2006000469

Dados do pedido

Número

PI0607567

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/03/2006

Publicação

18/10/2011

PCT

FR2006000469

Andamento no INPI

  1. Depósito02/03/06
  2. Publicação18/10/11
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

P. M. (pessoa física)

FR

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Inventores

A. D. (pessoa física)

FR

D. J. (pessoa física)

FR

E. D. (pessoa física)

FR

I. L. (pessoa física)

FR

J. P. (pessoa física)

FR

Y. R. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

0502152 · 03/03/2005

Resumo técnico

COMPOSTOS, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS QUÍMICOS E COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA. A invenção refere-se a derivados da 3,5-dioxo-(2H,4H)-l,2,4- triazina de fórmula geral I, em que -R~1~ e R~2~ podem ser idênticos ou diferentes e representam um radical alquila ou alquenila, linear ou ramificado, em C~1~-C~7~, um radical alquila em C~1~-C~6~ substituído por grupamentos tais como trifluorometila, cicloalquila em C~5~-C~6~ nitrila, alcoxicarbonilvinila em C~1~-C~4~, hidroxicarbonilvinila, alcoxicarbonila em C~1~-C~4~, carboxilato, benzilóxi ou fenila (para os quais o núcleo fenila é eventualmente substituído por um ou mais grupamentos como alquila em C~1~-C~4~, alcóxi em C~1~-C~4~, nitro, halogênio ou trifluorometila), -YR~3~ representa oxigênio ou NR~3~ em que R~3~ representa hidrogênio, um radical alquila ou alquenila, linear ou ramificado em C~1~-C~7~, um radical alquila em C~6~ substituído por grupamentos como trifluorometila ou fenila (para os quais o núcleo fenila é eventualmente substituído por um ou mais grupamentos como alquila em C~1~-C~4~, alcóxi em C~1~-C~4~, nitro, halogênio ou trifluorometila),- Z representa um átomo de oxigênio ou um átomo de carbono podendo ser ligado em posições orto, meta ou para do grupamento fenila de fórmula I, -n pode ser igual de O a 5 quando Z=C ou 2 a 4 quando Z=O, -X representa oxigênio ou enxofre,-R~4~, R~5~, R~6~, R~7~ e R~8~ representam hidrogênio ou flúor, -R~9~, R~10~e R~11~ representam hidrogênio ou um grupamento alquila, linear ou ramificado, em C~1~-C~5~, assim como os sais de adição com bases farmaceuticamente aceitáveis e os diferentes enantiômeros de compostos possuindo carbonos assimétricos, assim como suas misturas em todas as proporções, incluindo notadamente as misturas racêmicas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.

23/10/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

05/06/2012

RPI 2161

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

18/10/2011

RPI 2128

Alteração de dados cadastrais

#1.1

16/08/2011

RPI 2119

Monitoramento de patentes

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