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Dado oficial do INPI

NÃO TECIDO DE ESTICAMENTO BIAXIAL TIPO PANO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2005014180

Dados do pedido

Número

PI0519020

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/04/2005

Publicação

23/12/2008

PCT

US2005014180

Andamento no INPI

  1. Depósito25/04/05
  2. Publicação23/12/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Kimberly-Clark Worldwide, INC

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

G. H. (pessoa física)

US

P. G. (pessoa física)

US

P. Z. (pessoa física)

US

T. R. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

11/070.307 · 01/03/2005

Resumo técnico

NAO TECIDO DE ESTICAMENTO BIAXIAL TIPO PANO. Uma tela de compósito elastomérico (20) inclui um substrato elastomérico (22), e uma camada operativa de um material adesivo elastomérico a base de polipropileno (24) ou outro agente de modificação de superfície que seja aderido ou de outro modo aplicado diretamente a pelo menos um lado de revestimento principal (26) do substrato elastomérico (22) . Em aspectos particulares, a camada do agente de modificação de superfície (24) foi fornecida separada do substrato elastomérico (22), e a camada do agente de modificação de superfície (24) foi aplicada diretamente ao substrato e- lastomérico (22) ao mesmo tempo em que o substrato elastomérico foi operativamente configurado em uma condição substancialmente não esticada. Em outros aspectos, o substrato elastomérico (22) pode ter um peso de base distintamente elevado, e a camada de agente de modificação de superfície (24) pode ser aplicada diretamente ao substrato elastomérico (22) antes de prender o substrato elastomérico a qualquer substrato suplementar substancialmente não elastomérico separadamente fornecido. Em um outro aspecto, o substrato elastomérico (22) pode ser substancialmente livre de filamentos contínuos e elastoméricos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

23/10/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª anuidade.

29/05/2012

RPI 2160

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/12/2008

RPI 1981

Monitoramento de patentes

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